[P] P37~P53

[P41] 高圧ねじり加工を施したナノシリコン焼結体の準安定相生成と電気・光学特性

*李 卓航¹、髙井良 真里奈¹、生駒 嘉史²、河野 正道²、尾﨑 由紀子²、永廣 怜平³、塩見 淳一郎⁴ (1. 九大工（院生）、2. 九大工、3. 東大工（院生）、4. 東大工)

キーワード：ナノSi、準安定相、HPT加工、焼結体、フォトルミネッセンス、X線回折測定、ラマン散乱分光測定、比抵抗

SiのHPT加工では、これまでに単結晶を用いた研究が報告されている。しかし多結晶Siを出発材とした場合の変化は不明である。本研究では、ナノSi焼結体をHPT加工した際の準安定相形成および電気・光学特性を調査した。