日本金属学会2022年秋期(第171回)講演大会

Presentation information

一般講演

5.Materials Chemistry » Surface ,Interface and Catalysts

[G] Surface ,Interface and Catalysts

Thu. Sep 22, 2022 12:30 PM - 4:35 PM Rm. K (D35,3Flr. Build.D)

Chair:Tatsuya Kobayashi

2:55 PM - 3:10 PM

[216] Crystal structure of TaN thin films and electrochemical O3 production properties

*Ryoma Sakata1, naoto Todoroki1, Satoru Matsumoto2, Koki Ishigame2, Satoshi Matsuyama2, Toshimasa Wadayama1 (1. Tohoku Univ., 2. ISHIFUKU Metal Industry Co.)

Keywords:窒化タンタル(TaN)、オゾン(O3)、電解O3生成(EOP)

強力な酸化剤の一種であるO3製造方法の一つが水電解法である。
本研究では、水電解法によるO3製造に用いるアノード材料としてTaNを採用し、その結晶構造とO3特性との関係を調査した。

Please log in with your participant account.
» Participant Log In