日本金属学会2022年秋期(第171回)講演大会

講演情報

一般講演

5.材料化学 » 表面・界面・触媒

[G] 表面・界面・触媒

2022年9月23日(金) 09:00 〜 11:45 K会場 (D棟3階D35)

座長:呉 松竹(名古屋工業大学)、土谷 博昭(大阪大学)

10:15 〜 10:30

[226] 金属スパッタリング処理を施したセルロース粉末の電解ニッケル複合めっきの共析粒子としての適用検討

*飯岡 諒1、川鍋 渉1、荘司 郁夫1、小林 竜也1 (1. 群馬大学大学院理工学府)

キーワード:複合めっき、湿式めっき、電解めっき、セルロース、スパッタリング

金属スパッタリング処理を施したセルロース粉末(CF)の電解ニッケル(Ni)複合めっき膜中への共析挙動を調査した。CFを覆うようなNiの析出が確認され、本処理がNiめっき膜へのCFの共析に有効であると示唆された。

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