[P] P199~P215

[P210] Substrate Temperature Dependence of Ru Thin Film Crystallographic Orientation by Sputtering Method

*Sakabe Hitoki¹, Sato Reo¹, Nagano Takatoshi¹, Shibachi Yutaro² (1. Ibaraki University Science and Engineering, 2. FURUYA METAL Co.)

Keywords:薄膜、スパッタリング法、ルテニウム

ルテニウムは、結晶構造や方位を制御する事によって磁性が発生すると知られている。本研究はスパッタリング法を採用し、結晶性の高い薄膜を作製する為に、作製時のガス圧や電力などの依存性を調べた。