日本金属学会2024年秋期(第175回)講演大会

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ポスターセッション

3.Microstructure » Microstructure

[P] P7~P25

Wed. Sep 18, 2024 12:00 PM - 1:30 PM Poster Session Room1 (Assembly Hall at Osaka Univ. Hall)

12:00 PM - 1:30 PM

[P17] Crystallization of amorphous HfO2 films by irradiation with low-energy electron beams

*Sota Hoshishima1, Ryusuke Nakamura2 (1. Univ. of Shiga Pref (M), 2. Univ. of Shiga Pref)

Keywords:アモルファス、酸化ハフニウム(HfO2)、電子ビーム照射、結晶化、透過型電子顕微鏡

透過電子顕微鏡を用いて,低エネルギーの電子ビーム照射によるアモルファスHfO2の結晶化を試みた.電子エネルギー40 keVにおいて,電子フラックスが(1.0-2.5) × 1023 m-2 s-1の範囲で結晶化した.

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