日本金属学会2024年秋期(第175回)講演大会

講演情報

ポスターセッション

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[P] P7~P25

2024年9月18日(水) 12:00 〜 13:30 ポスターセッション会場1 (大学会館アセンブリーホール)

12:00 〜 13:30

[P17] 低エネルギーの電子ビーム照射によるアモルファスHfO2薄膜の結晶化

*星島 颯太1、仲村 龍介2 (1. 滋賀県立大工(院生)、2. 滋賀県立大工)

キーワード:アモルファス、酸化ハフニウム(HfO2)、電子ビーム照射、結晶化、透過型電子顕微鏡

透過電子顕微鏡を用いて,低エネルギーの電子ビーム照射によるアモルファスHfO2の結晶化を試みた.電子エネルギー40 keVにおいて,電子フラックスが(1.0-2.5) × 1023 m-2 s-1の範囲で結晶化した.

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