[P] P186~P200

[P195] 微細凹凸を有するITO表面における斜入射反応性蒸着法による離散的ナノ柱状構造化InN薄膜堆積

*渡邉 将騎¹、井上 泰志¹、高井 治² (1. 千葉工大院工、2. 関東学院大材料表面研)

キーワード：InN薄膜、ITO、蒸着法

窒化インジウムは，従来のEC材料と比較して，色変化の速度が速い．しかし，その速度を決定する要因が分かっていない。本研究では，基板として用いるITO表面凹凸を意図的に変化させ，EC特性に対する影響を調査した.