日本金属学会2024年秋期(第175回)講演大会

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ポスターセッション

9.Electric/Electronic/Optical Materials » Electric/Electronic/Optical Materials

[P] P282~P289

Wed. Sep 18, 2024 4:00 PM - 5:30 PM Poster Session Room2 (Studio A at Science Commons)

4:00 PM - 5:30 PM

[P282] Structure and magnetic properties of FeNi thin films by the introduction of Ag buffer layer

*Yuto Miura1, Sho Ishii1, Tomoki Hirakawa, Masaaki Doi1, Toshiyuki Shima1 (1. Tohoku Gakuin University)

Keywords:FeNi、L10 structure、Magnetocrystalline anisotropy、Thin film

L10-FeNiは、レアアースを用いずにNd系磁石を凌駕する永久磁石を実現できる可能性がある。本研究では、窒化脱窒素法により[Fe/Ni]40薄膜を作製し、Ag下地層の導入による構造及び磁気特性に対する影響を調査した。

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