日本金属学会2024年秋期(第175回)講演大会

講演情報

一般講演

9.電気・磁気 関連材料 » 電気・電子・光関連材料

[G] 電子材料・テラヘルツ光

2024年9月19日(木) 13:00 〜 17:45 I会場 (全学教育推進機構講義A棟2階A214)

座長:田邉 匡生(芝浦工業大学)、内山 智貴(東北大)、畑山 祥吾(産業技術総合研究所)、齊藤 雄太(東北大学)

15:35 〜 15:50

[249] アモルファス相CrTe3薄膜/ポリイミド基板の引張試験における抵抗変化挙動

*吉田 陸人1、王 吟麗1、双 逸2、安藤 大輔1、須藤 祐司1,2 (1. 東北大工、2. 東北大AIMR)

キーワード:CrTe3、ピエゾ抵抗効果、ひずみゲージ、アモルファス薄膜

アモルファス相CrTe3薄膜/ポリイミド基板における応力印加に対する抵抗変化機構の解明を目的とし、スパッタリング法により成膜した膜厚200nmの同薄膜に対し引張試験とその場電気特性測定、表面観察を実施した。

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