[G] 電子材料・テラヘルツ光

[254] Si_xFe_3-xO₄固溶体の作製と固溶限

*阿部 世嗣¹、川又 透²、杉山 和正² (1. 電磁研、2. 東北大金研)

キーワード：鉄酸化物、焼結体、相転移、固溶体、固溶限

Si_xFe_3-xO₄焼結体を作製し、Siのの固溶限の検討を行った。その結果、Si濃度と格子定数の関係、EDS分析、および微小な単結晶粒を用いた反射X線解析の結果から、の固溶限はx=約0.06と見積もられる。