10:00 〜 10:15
[67] X線小角散乱法によるナノグラニュラー膜の厚さ方向構造評価法の検討
キーワード:X線小角散乱法、ナノグラニュラー膜、光デバイス、タンデムスパッタリング、構造異方性
タンデムスパッタリングにより作製された、磁性体粒子が膜厚方向に異方的に分散したナノグラニュラー膜を、試料ホルダー内にスペーサーを設けることでX線入射角を変化させながらラボSAXS法により測定した。
一般講演
9.電気・磁気 関連材料 » 磁性材料
2024年9月20日(金) 09:00 〜 12:30 B会場 (全学教育推進機構講義A棟地階A002)
座長:梅津 理恵(東北大学)、白土 優(大阪大学)
10:00 〜 10:15
キーワード:X線小角散乱法、ナノグラニュラー膜、光デバイス、タンデムスパッタリング、構造異方性