日本金属学会2024年秋期(第175回)講演大会

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一般講演

3.Microstructure » Analysis/Characterization/Evaluation

[G] Analysis/Characterization/Evaluation

Fri. Sep 20, 2024 1:00 PM - 3:45 PM Room E (B108 1st floor Building B Center for Education in Liberal Arts and Sciences)

Chair:Satoshi Hata

1:30 PM - 1:45 PM

[167] Electronic excitation and Fe2Si formation in Fe/amorphous SiOx thin films

*Kazuhisa Sato1, Yuta Fujii2 (1. Research Center for UHVEM, Osaka Univ., 2. Graduate School of Eng., Osaka Univ.)

Keywords:電子励起、電子照射、界面固相反応、オージェ崩壊、Feシリサイド

真空蒸着法により作製したFe/アモルファス(a-)SiOx薄膜に75 keV電子照射を行うと、室温で三方晶Fe2Siが生成した。電子励起によるa-SiOxの解離に起因すると考えられる。固相反応メカニズムについて考察した。

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