[G] Analysis/Characterization/Evaluation

[167] Electronic excitation and Fe₂Si formation in Fe/amorphous SiO_x thin films

*Kazuhisa Sato¹, Yuta Fujii² (1. Research Center for UHVEM, Osaka Univ., 2. Graduate School of Eng., Osaka Univ.)

Keywords:電子励起、電子照射、界面固相反応、オージェ崩壊、Feシリサイド

真空蒸着法により作製したFe/アモルファス(a-)SiOx薄膜に75 keV電子照射を行うと、室温で三方晶Fe2Siが生成した。電子励起によるa-SiOxの解離に起因すると考えられる。固相反応メカニズムについて考察した。