[G] 分析・解析・評価

[167] Fe/アモルファスSiO_x薄膜における電子励起効果とFe₂Si生成

*佐藤 和久¹、藤井 悠太² (1. 阪大電顕センター、2. 阪大院工(院生))

キーワード：電子励起、電子照射、界面固相反応、オージェ崩壊、Feシリサイド

真空蒸着法により作製したFe/アモルファス(a-)SiOx薄膜に75 keV電子照射を行うと、室温で三方晶Fe2Siが生成した。電子励起によるa-SiOxの解離に起因すると考えられる。固相反応メカニズムについて考察した。