日本金属学会2024年秋期(第175回)講演大会

講演情報

公募シンポジウム講演

[S7] S7.ワイドギャップ結晶の材料学と高温プロセッシングVI

ワイドギャップ結晶は、省エネ・環境負荷低減に寄与するパワーデバイスや短波長光デバイスへの応用・開発が進められている。特にSiCパワーデバイスは本格的量産が進み、GaNもLEDのみならずパワーデバイス用基板の生産が進められつつある。さらなる発展には各材料の高品質結晶の育成技術の確立や、高効率ウェハー化やデバイスプロセスの開発が望まれている。講演大会では、これまで5回の公募シンポジウムを開催し、で研究・開発の最新動向を議論してきた。
 本シンポジウムでも引き続き、SiCや窒化物材料、酸化物材料等ワイドギャップ結晶の育成技術や再加工技術、欠陥低減技術について、金属材料学や冶金学や半導体工学、またそれらの融合分野の最新の研究を議論する。

2024年9月20日(金) 13:00 〜 16:45 J会場 (全学教育推進機構講義A棟2階A204)

座長:安達 正芳(東北大学)、川西 咲子(京都大学)

14:20 〜 14:40

[S7.4] Gibbs-Thomson溶媒を用いたSiC溶液成長のその場観察

*浅野 雄介1、鈴木 賢紀2、中本 将嗣2、吉川 健2 (1. 阪大工(院生)、2. 阪大工)

キーワード:SiC、溶液成長、Gibbs-Thomson効果、干渉縞観察、その場観察

Gibbs-Thomson効果を用いた高速液相エピタキシーで、1873KでSiCエピタキシャル層の成長を観察した。干渉縞観察により成長速度をリアルタイムで捉え、1~30minで0.8~1.0mm/minの一定速度を確認した。

要旨・抄録、PDFの閲覧には参加者用アカウントでのログインが必要です。参加者ログイン後に閲覧・ダウンロードできます。
» 参加者用ログイン