[P] P39~P46

[P42] Effect of Oxygen Flow Rate on Microstructure of TiO₂ Films Deposited by Glancing-angle Reactive Sputtering

*CHEN YUSOU¹, Inoue Yasushi², Takai Osamu³ (1. Chiba Inst. Technol, 2. Chiba Inst. Technol, 3. Kanto Gakuin Univ)

Keywords:TiO₂薄膜、斜入射スパッタリング、微細構造、結晶性、酸素流量

成膜中の基板を加熱することで斜入射TiO₂薄膜の部分的な離散的柱状構造化の向上ができたが、基板温度が高いことで結晶の離散性が低かった。Ti原子のマイグレーションを制御するために酸素分圧をパラメータとした。