[2E01-03] インターナショナル sess. 5

[2E01] ZSM-5担持Rh二元機能触媒を用いたn-ヘキサン接触分解の低温化

○藤墳 大裕¹、山地 真愛¹、多湖 輝興¹ (1. 東京工業大学物質理工学院)

ナフサ接触分解は通常650℃以上の高温で実施されるエネルギー消費の大きいプロセスであるため，プロセスの低温化・省エネルギー化が求められる．それに対し，貴金属上での脱水素反応によりナフサ中のパラフィンを反応性に富むオレフィンに転換し，固体酸触媒上での低級オレフィンを得る低温接触分解反応系を着想した．本発表ではn-ヘキサンをナフサモデル物質とし，低温接触分解に有効な触媒構造について報告する．