(fsLA-)spICP-MSによるSiウェハ表面の粒子状汚染物質評価技術の基礎検討

Presentation information

（ポスター講演）

一般ポスター／テクノレビューポスター

Thu. Sep 15, 2022 10:45 AM - 12:15 PM PB/YB会場 (大学会館2F)

10:45 AM - 12:15 PM

*山下真弘¹、島村佳典²、奥田勇気³ (1. 京セラ（株）、2. アジレント・テクノロジー（株）、3. 西進商事（株）)

Keywords:spICP-MS、fsLA-spICP-MS、LA-ICP-MS、nanoparticle

Abstract password authentication.
Password is required to view the abstract. Please enter a password to authenticate.