日本分析化学会第72年会

講演情報

(口頭講演)

17:界面分析

界面分析 1

2023年9月15日(金) 13:15 〜 14:00 B3会場 (熊本城ホール)

座長:安達 健太(山口大学大学院創成科学研究科)

13:15 〜 13:30

[3B3-101] 低水分電解研磨法がNb表面の水素吸蔵へ及ぼす影響

○後藤 剛喜1 (1. 高エネルギー加速器研究機構)

キーワード:Nb表面、水素吸蔵、電解研磨、弾性反跳粒子検出分析法 (ERDA)、超伝導加速器

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