09:45 〜 10:00
○小川勇人1,福岡侑士1,豊田浩孝1,2 (名大工1,名大プラズマナノ工学研究センター2)
一般セッション(口頭講演)
08.プラズマエレクトロニクス » 8.3 プラズマ成膜・表面処理
2013年9月17日(火) 09:45 〜 11:45 C1 (TC3 1F-101)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
09:45 〜 10:00
○小川勇人1,福岡侑士1,豊田浩孝1,2 (名大工1,名大プラズマナノ工学研究センター2)
10:00 〜 10:15
節原裕一1,○竹中弘祐1,大谷浩史1,金井厚毅1,大崎創一郎1,江部明憲2 (阪大接合研1,イー・エム・ディー2)
10:15 〜 10:30
○竹中弘祐,節原裕一 (阪大接合研)
10:30 〜 10:45
○(M2)孫昿達1,竹田圭吾1,伊藤仁1,2,近藤博基1,石川健治1,関根誠1,堀勝1 (名大院工1,東京エレクトロン2)
10:45 〜 11:00
○Susumu Toko,金淵元,橋本優史,金光善徳,徐鉉雄,内田儀一郎,鎌滝晋礼,板垣奈穂,古閑一憲,白谷正治 (九大)
11:00 〜 11:15
○(M2)野阪幸平1,石島達夫1,田中康規1,上杉喜彦1,堀邊英夫2,後藤洋介2 (金沢大1,金沢工大2)
11:15 〜 11:30
○井上貴史1,市來龍大1,山本宏文1,吉田昌史2,赤峰修一1,金澤誠司1 (大分大工1,静岡理工科大2)
11:30 〜 11:45
○吉光祐樹1,市來龍大1,神田祥吾1,吉田昌史2,赤峰修一1 (大分大工1,静岡理工科大2)