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一般セッション(ポスター講演)

16．非晶質・微結晶 » 16.2 プロセス技術・デバイス

[17p-P11-1~1] 16.2 プロセス技術・デバイス

2013年9月17日(火) 13:30 〜 15:30 P11 (デイヴィス記念館 )

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

13:30 〜 15:30

[17p-P11-1] めっき法により堆積したGe膜の評価

^○内田恭敬¹，白濱大援¹，中島基博¹，舩山朋子¹，木暮嘉明¹，上野和良² (帝京科大¹，芝浦工大工²)