[18a-A4-1~9] 16.2 プロセス技術・デバイス

2013年9月18日(水) 09:15 〜 12:00 A4 (TC1 2F-216)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

09:15 〜 09:45

[18a-A4-1] 「非晶質・微結晶分科内招待講演」（30分）シリコンインクの製膜性と薄膜特性

^○増田貴史^1,2，下田達也^1,2,3 (北陸先端大¹，JST-ERATO²，JST-ALCA³)

09:45 〜 10:00

^○（M2）佐久間陽¹，大平圭介^1,2，増田貴史^1,3，申仲栄^1,2，高岸秀行^1,2，下田達也^1,2,3 (北陸先端大¹，JST-ALCA²，JST-ERATO³)

10:00 〜 10:15

^○中村将吾，酒池耕平，赤澤宗樹，福永貴司，林将平，東清一郎 (広大院先端研)

10:15 〜 10:30

^○福永貴司，酒池耕平，中村将吾，赤澤宗樹，東清一郎 (広大院先端研)

休憩　 (10:30 〜 10:45)

10:45 〜 11:00

^○（PC）大橋史隆，岩井義樹，杉山智哉，野口明宏，永井一輝，服部真嗣，小倉拓也，姫野呂人，伴隆幸，久米徹二，佐々木重雄，野々村修一 (岐阜大工)

11:00 〜 11:15

^○林和秀，砂場昭吾，野村政貴，太田光祐，岩井義樹，大橋史隆，伴隆幸，久米徹二，野々村修一 (岐阜大工)

11:15 〜 11:30

^○中村優平，宝田隼，古川昭雄 (東理大)

11:30 〜 11:45

^○宝田隼，宮地良輔，中村優平，古川昭雄 (東理大理工)

11:45 〜 12:00

^○西川和孝，岸田佳大，竹田康彦 (豊田中研)