[18p-C5-1~8] 大電力パルススパッタリングによる反応性成膜プロセスの可能性（関連大分類：8）

2013年9月18日(水) 14:00 〜 18:15 C5 (TC3 1F-115)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

14:00 〜 14:30

[18p-C5-1] HiPIMSの今－スパッタ源の大電力パルス駆動－（30分）

^○東欣吾 (兵庫県立大)

14:30 〜 15:00

^○中野武雄，馬場茂 (成蹊大理工)

15:00 〜 15:30

^○廣田悟史¹，Rainer Cremer²，高橋哲也² (神戸製鋼所¹，KCS²)

休憩　 (15:30 〜 15:45)

15:45 〜 16:15

^○木村高志 (名工大工)

16:15 〜 16:45

^○平塚傑工^1,2，中森秀樹¹ (ナノテック¹，東理大基礎工²)

16:45 〜 17:00

^○野田智紀¹，萩原敏哉¹，豊田浩孝^1,2 (名大工¹，名大プラズマナノ²)

休憩　 (17:00 〜 17:15)

17:15 〜 17:45

^○小木曽久人^1,2，中野禅^1,2，行村健¹，加藤旭彦^2,3，薮田勇気^2,3，Sommawan Khumpuang^1,2，原史朗^1,2 (産総研¹，ミニマルファブ²，誠南工業³)

17:45 〜 18:15

^○池畑隆 (茨城大理工)