13:00 〜 13:45
○魚崎浩平 (物材機構)
一般セッション(口頭講演)
06.薄膜・表面 » 6.5 表面物理・真空
2013年9月18日(水) 13:00 〜 17:45 D2 (MK 1F-102)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
13:00 〜 13:45
○魚崎浩平 (物材機構)
13:45 〜 14:00
○有馬健太1,河合佳枝1,箕浦佑也1,川合健太郎1,細井卓治1,渡部平司1,森田瑞穂1,Zhi Liu2 (阪大院工1,バークレー国立研2)
14:00 〜 14:15
○吉武道子1,Slavomir Nemsak1,Tomas Skala2,Kevin Prince2 (物材機構1,トリエステ2)
14:15 〜 14:30
○吉越章隆1,岡田隆太1,2,寺岡有殿1,3,岩井優太郎1,3,山田洋一2,佐々木正洋2 (日本原子力研究開発機構1,筑波大院数物2,兵県大院物質理学3)
14:30 〜 14:45
○大野真也1,安部壮祐1,三浦脩1,成重卓真1,吉越章隆2,寺岡有殿2,安田哲二3,田中正俊1 (横国大工1,原子力機構2,産総研3)
14:45 〜 15:00
○古橋匡幸1,吉信淳2 (阪大産研1,東大物性研2)
休憩 (15:00 〜 15:15)
15:15 〜 15:30
oAndrew Pratt1,Yu Jeong Bae2,Xia Sun3,Mitsunori Kurahashi1,Nyun Jong Lee2,Tae Hee Kim2,Yasushi Yamauchi1 (National Institute for Materials Science1,Ewha Womans University, Seoul2,University of Science and Technology of China3)
15:30 〜 15:45
○橘田晃宜1,松田太志2,前田泰1,秋田知樹1,田中真悟1,城戸義明2,香山正憲1 (産総研・ユビキタス1,立命館大・理工2)
15:45 〜 16:00
○田中真悟1,橘田晃宣1,田村友幸2,前田泰1,秋田知樹1,香山正憲1 (産総研ユビキタス1,名工大2)
16:00 〜 16:15
○前田泰,山崎眞一,田中真悟,香山正憲 (産総研)
16:15 〜 16:30
○堀尾吉已1,高桑雄二2,小川修一2,田代将人1 (大同大工1,東北大多元研2)
休憩 (16:30 〜 16:45)
16:45 〜 17:00
○須藤孝一1,蛭田玲子2,栗林均2 (阪大産研1,富士電機2)
17:00 〜 17:15
○岡坂翔太,大橋朋紘,丹波大樹,田畑博史,久保理,片山光浩 (阪大院工)
17:15 〜 17:30
○(M2)成重卓真1,鷺坂恵介2,藤田大介2,大野真也1,田中正俊1 (横浜国大院工1,物質・材料研究機構2)
17:30 〜 17:45
○田中崇之1,2,山本直紀1,2,高柳邦夫1,2 (東工大院理工1,JST-CREST2)