[20a-B4-1~11] 13.5 Siプロセス技術

2013年9月20日(金) 09:00 〜 12:00 B4 (TC2 1F-106)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

09:00 〜 09:15

[20a-B4-1] F₂+HeガスドライエッチングによるSiトレンチ側壁上のスキャロップ低減化処理

^○三笠亮¹，新海聡子²，野田有輝³，本山慎一³ (九工大院情¹，九工大マイクロ化²，サムコ³)

09:15 〜 09:30

^○吉野裕¹，妹尾武彦¹，小池国彦¹，瀬木利夫²，青木学聡²，松尾二郎² (岩谷産業¹，京大院工²)

09:30 〜 09:45

^○田中宏幸²，中野禅^1,2，清水禎樹^1,2，小木曽久人^1,2，二川真士³，吉岡秀明³，福田孝弘³，内山嘉典³，Sommawan Khumpuang^1,2，原史朗^1,2 (産総研¹，ミニマルファブ技術研究組合²，デザインネットワーク³)

09:45 〜 10:00

^○奧田修史¹，梅山規男^1,2，山崎篤^1,3，住澤春男^1,3，市川浩一郎^1,3，武内翔^1,4，扇子義久^1,4，ソマワンクンプアン^1,2，原史朗^1,2 (ミニマルファブ技術研究組合¹，産総研²，不二越機械工業³，リソテックジャパン⁴)

10:00 〜 10:15

^○李寧¹，羽深等¹，池田伸一^2,3，石田夕起^2,3，原史朗^2,3 (横国大院工¹，産総研²，ミニマルファブ技術研究組合³)

10:15 〜 10:30

^○小木曽久人^1,2，中野禅^1,2，行村健¹，加藤旭彦^2,3，薮田勇気^2,3，Sommawan Khumpuang^1,2，原史朗^1,2 (産総研¹，ミニマルファブ技術研究組合²，誠南工業³)

休憩　 (10:30 〜 10:45)

10:45 〜 11:00

^○遠江栄希²，谷島孝²，千葉貴史^1,2，寺田昌男^1,2，池田伸一^2,3，ソマワンクンプアン^2,3，原史朗^2,3 (坂口電熱¹，ミニマルファブ技術研究組合²，産総研³)

11:00 〜 11:15

^○北山侑司¹，遠江栄希¹，石井好恵^1,2，入田亮一^1,2，三宅賢治^1,2，ソマワンクンプアン^1,3，原史朗^1,3 (ミニマルファブ技術研究組合¹，PMT²，産総研³)

11:15 〜 11:30

^○梅山規男^1,2，居村史人^1,2，中戸克彦¹，澁谷和孝^1,3，中村由夫^1,3，市川浩一郎³，ソマワンクンプアン^1,2，原史朗^1,2 (ミニマルファブ技術研究組合¹，産総研²，不二越機械工業³)

11:30 〜 11:45

^○谷島孝¹，ソマワンクンプアン^1,2，前川仁^1,2，原史朗^1,2 (ミニマルファブ技術研究組合¹，産総研²)

11:45 〜 12:00

^○鈴木真之佑^1,2，柳沼綾美^1,2，森川清彦^1,2，服部昌^1,2，中戸克彦²，三ヶ原孝則²，池田伸一^2,3，ソマワンクンプアン^2,3，原史朗^2,3 (光洋サーモシステム¹，ミニマル²，産総研³)