[20p-C7-1~5] 6.4 薄膜新材料

2013年9月20日(金) 13:45 〜 15:00 C7 (TC3 1F-117)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし

13:45 〜 14:00

△ [20p-C7-1] CBD法を用いたNiO薄膜のエレクトロクロミック特性と堆積時間依存性

^○中島啓之，稲田貢，齊藤正 (関西大システム理工)

14:00 〜 14:15

^○出原聡一，加藤瑞季，渡会光貴，二宮善彦，佐藤厚，山田直臣 (中部大工)

14:15 〜 14:30

^○高橋純平^1,2，廣瀬靖^1,2,3，中尾祥一郎^2,3，楊長^1,2,3，岡崎壮平^2,3，福村知昭^1,2,3，長谷川哲也^1,2,3 (東大¹，KAST²，JST-CREST³)

14:30 〜 14:45

^○浜嵜容丞，清水荘雄，谷口博基，谷山智康，伊藤満 (東工大)

14:45 〜 15:00

^○宍倉輝¹，松本祐司^1,2 (東工大応セラ研¹，東北大院工²)