[16p-A13-1~14] 7.3 リソグラフィ

[16p-A13-7] 超並列電子線描画装置用アクテイブマトリクスnc-Si面電子源の開発（III）

^○池上尚克¹，小島明²，吉田孝³，大井英之²，越田信義¹，江刺正喜³ (東京農工大¹，クレステック²，東北大³)

キーワード：超並列電子線描画　,ナノシリコン　,電子エミッタ