[16p-C11-1~12] 界面ナノ電子化学：産業界における最先端半導体デバイスのナノレベル界面制御の課題

[16p-C11-6] CMP後洗浄用PVAブラシの摩擦特性

^○真田俊之¹，原義高¹，福永明²，檜山浩國² (静大工¹，荏原製作所²)

キーワード：CMP