PDF ダウンロード スケジュール 14 いいね! 2 13:30 〜 15:30 [16p-P7-9] Niシリサイドを用いたSi基板上エピタキシャルグラフェンの低温形成 ○長谷川美佳,菅原健太,三本菅正太,原本直樹,須藤亮太,吹留博一,長澤弘幸,末光眞希 (東北大通研) キーワード:グラフェン,エピタキシャル成長,シリサイド