2013年第74回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

合同セッションK » 合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[17a-B4-1~12] 合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

2013年9月17日(火) 09:00 〜 12:15 B4 (TC2 1F-106)

09:00 〜 09:15

[17a-B4-1] 超音波噴霧ミストCVD法によるコランダム構造In2O3薄膜の成長

鈴木規央,金子健太郎,藤田静雄 (京大院工)

キーワード:酸化インジウム,ミストCVD,コランダム