[17a-B4-1~12] 合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[17a-B4-7] 大気圧プラズマCVDを用いたZnO薄膜の成長機構

^○（D）野瀬幸則¹，中村立¹，吉村武¹，芦田淳¹，上原剛²，藤村紀文¹ (阪府大院工¹，積水化学²)

キーワード：ZnO,大気圧プラズマ,CVD