2013年第74回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.3 絶縁膜技術

[17a-B5-1~10] 13.3 絶縁膜技術

2013年9月17日(火) 09:15 〜 12:00 B5 (TC2 2F-201)

09:30 〜 09:45

[17a-B5-2] SOG溶液を用いた塗布ゲート酸化膜の低温作製

臼田亮,野崎眞次,内田和男 (電通大)

キーワード:シリコン酸化膜,spin on glass,UV光酸化