[17a-C1-1~8] 8.3 プラズマ成膜･表面処理

△ [17a-C1-4] 大気圧プラズマを用いたミスト化学気相堆積法によるシリコン酸化膜の低温形成

^○（M2）孫昿達¹，竹田圭吾¹，伊藤仁^1,2，近藤博基¹，石川健治¹，関根誠¹，堀勝¹ (名大院工¹，東京エレクトロン²)

キーワード：シリコン酸化膜,大気圧プラズマCVD,プリンタブルエレクトロニクス