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一般セッション(口頭講演)

04．量子エレクトロニクス » 4.7 レーザー・プロセッシング

[17p-A3-1~18] 4.7 レーザー・プロセッシング

2013年9月17日(火) 13:30 〜 18:30 A3 (TC1 1F-132)

17:30 〜 17:45

[17p-A3-15] パルスレーザーメルティング法によるSi中でのMnの拡散と偏析

^○小柴悠資，川邊大介，杉村陽，梅津郁朗 (甲南大理工)

キーワード：pulsed laser melting,Mn,segregation