[17p-B5-1~21] 13.3 絶縁膜技術

[17p-B5-12] Kr/O₂プラズマ酸化法を用いたGeO₂/Ge構造の作成及び評価

^○中谷友哉，山口まりな，岩崎好考，上野智雄 (東京農工大・工)

キーワード：プラズマ酸化,Ge oxide