[17p-B5-1~21] 13.3 絶縁膜技術

△ [17p-B5-13] 低温・超低損傷中性粒子ビーム酸化を用いたGeO_x薄膜構造の制御

^○中山大樹¹，大野武雄²，张睿³，高木信一³，寒川誠二^1,2 (東北大流体研¹，東北大WPI-AIMR²，東大院工³)

キーワード：中性粒子ビーム後酸化法,ビームエネルギー,ゲルマニウム酸化膜