[17p-B5-1~21] 13.3 絶縁膜技術

[17p-B5-18] 界面反応機構に基づくAl₂O₃/Ge界面構造制御

^○柴山茂久^1,2，加藤公彦¹，坂下満男¹，竹内和歌奈¹，田岡紀之¹，中塚理¹，財満鎭明¹ (名大院工¹，学振特別研究員²)

キーワード：Al2O3/Ge,熱酸化,界面反応