2013年第74回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.3 絶縁膜技術

[17p-B5-1~21] 13.3 絶縁膜技術

2013年9月17日(火) 13:00 〜 18:30 B5 (TC2 2F-201)

13:30 〜 13:45

[17p-B5-3] 分子動力学シミュレーションによるAl2O3/SiO2界面のダイポール層の再現

栗山亮1,橋口誠広1,高橋隆介1,小椋厚志3,5,佐藤真一4,5,渡邉孝信1,2,5 (早大理工1,早大ナノ機構2,明大理工3,兵庫県立大4,JST-CREST5)

キーワード:分子動力学,ダイポール,シミュレーション