[17p-B5-1~21] 13.3 絶縁膜技術

[17p-B5-3] 分子動力学シミュレーションによるAl₂O₃/SiO₂界面のダイポール層の再現

^○栗山亮¹，橋口誠広¹，高橋隆介¹，小椋厚志^3,5，佐藤真一^4,5，渡邉孝信^1,2,5 (早大理工¹，早大ナノ機構²，明大理工³，兵庫県立大⁴，JST-CREST⁵)

キーワード：分子動力学,ダイポール,シミュレーション