2013年第74回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.3 絶縁膜技術

[17p-B5-1~21] 13.3 絶縁膜技術

2013年9月17日(火) 13:00 〜 18:30 B5 (TC2 2F-201)

14:30 〜 14:45

[17p-B5-7] 多結晶HfO2厚膜の絶縁特性

林真理子,門馬久典,蓮沼隆,山部紀久夫 (筑波大電物)

キーワード:HfO2,Thick