[17p-P11-1~1] 16.2 プロセス技術・デバイス

[17p-P11-1] めっき法により堆積したGe膜の評価

^○内田恭敬¹，白濱大援¹，中島基博¹，舩山朋子¹，木暮嘉明¹，上野和良² (帝京科大¹，芝浦工大工²)

キーワード：ゲルマニウム,めっき