[17p-P2-1~49] 8 プラズマエレクトロニクス（ポスター）

[17p-P2-21] VHF-PECVDで形成したSiNx膜中の化学結合経時変化

^○小林信一 (東京工芸大工)

キーワード：窒化シリコン膜,化学的気相成長,プラズマ成膜