[18a-A4-1~9] 16.2 プロセス技術・デバイス

[18a-A4-5] 薄膜Siクラスレートの合成とその物性評価

^○（PC）大橋史隆，岩井義樹，杉山智哉，野口明宏，永井一輝，服部真嗣，小倉拓也，姫野呂人，伴隆幸，久米徹二，佐々木重雄，野々村修一 (岐阜大工)

キーワード：Si,clathrate,薄膜