2013年第74回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

06.薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[18a-D3-1~11] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2013年9月18日(水) 09:30 〜 12:30 D3 (MK 2F-201)

10:30 〜 10:45

[18a-D3-5] NiO薄膜の膜質がPt/NiO/Pt抵抗変化素子のフォーミング電圧に及ぼす影響

○(DC)岩田達哉,西佑介,木本恒暢 (京大院工)

キーワード:抵抗変化型メモリ,酸化ニッケル,残留応力