2013年第74回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

06.薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[18p-D3-1~17] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2013年9月18日(水) 14:00 〜 19:00 D3 (MK 2F-201)

18:30 〜 18:45

[18p-D3-16] トポタクティック反応によるSrFeOx薄膜のフッ素置換

片山司1,近松彰1,2,廣瀬靖1,2,3,高木亮介1,神坂英幸1,2,福村知昭1,2,長谷川哲也1,2,3 (東大1,JST-CREST2,KAST3)

キーワード:酸化物薄膜,パルスレーザー堆積法