[18p-P9-1~10] 13.3 絶縁膜技術

[18p-P9-10] シリコン窒化膜の常磁性欠陥に対する熱処理の効果(Ⅱ)

鈴木亜嵐¹，シャクール ナウシャド¹，落合良治²，永島大樹²，^○小林清輝^1,2 (東海大院工¹，東海大工²)

キーワード：不揮発性メモリ,ESR,シリコン窒化膜