[18p-P9-1~10] 13.3 絶縁膜技術

[18p-P9-4] 酸化・還元アニールによる多結晶HfO₂膜の相変態と電気的特性変化

^○門馬久典，蓮沼隆，山部紀久夫 (筑波大)

キーワード：多結晶HfO2,酸素欠損