[18p-P9-1~10] 13.3 絶縁膜技術

[18p-P9-6] DLTS法によるECRプラズマ法GeN_x/Geの界面近傍トラップに対する熱処理効果の評価Ⅱ

^○成田英史¹，岩崎拓郎¹，福田幸夫²，王谷洋平²，小野俊郎¹，岡本浩¹ (弘前大¹，諏訪東理大²)

キーワード：Ge-MIS,DLTS