[19a-A4-1~11] 16.3 シリコン系太陽電池

[19a-A4-11] SiH₄、GeH₄とF₂を用いた反応性CVD法による単結晶SiGe薄膜の成長とヘテロ接合太陽電池応用

^○野毛宏^1,2，金子哲也^1,2，近藤道雄²，岡田明³ (福島大¹，産総研²，コーニング³)

キーワード：SiGe,反応性CVD,ヘテロ接合太陽電池