[19a-P3-1~27] 6.3 酸化物エレクトロニクス

△ [19a-P3-3] 原子層堆積法による光触媒TiO₂薄膜の作製

^○田仲史弥¹，清水貴裕¹，西村幸姫²，三納清司²，浜部薫²，上田一輝³，加藤宏太³，小林久芳³，實野孝久⁴，稲田貢¹，齊藤正¹ (関西大システム理工¹，EMATEC²，京都工繊大院³，阪大レーザー研⁴)

キーワード：光触媒,ALD,原子層堆積法