PDF ダウンロード スケジュール 13 いいね! 0 09:30 〜 11:30 [19a-P9-3] 熱酸化SiC MOSキャパシタの絶縁破壊痕の形状評価 ○佐藤創志1,廣井佑紀3,山部紀久夫3,北畠真4,遠藤哲郎1,2,丹羽正昭1 (東北大国際集積センター1,東北大工学研究科2,筑波大電子物理3,FUPET4) キーワード:熱酸化,絶縁破壊